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Panasonic 松下等离子清洗设备
PSX307等离子清洗设备
PSX307等离子清洗设备
应用领域：在半导体晶圆工序的延伸以及引线键合、倒装芯片、塑封、底部填充。
设备特点：
1. 生产性、灵活性：扩大设备内室、传送轨道数可变、可连接多种搬运方式。
2. 产品追踪性：等离子放电监控、产品追踪功能。
在半导体领域的具体应用：
设备参数：
能够适用超薄镀金的理由 |
以氧离子改良表面 |
搬送系统选购件 M type附带M类型的搬送系统和进料/出料选购件 S type附带S类型的搬送系统和进料/出料选购件
|
|
项目 |
PSX307 |
型号 |
NM-EFP1A |
清洁方式 |
高频率平行板逆电极方式 |
放电用气体 ※1 |
氩气[选购件：氧气] |
基板尺寸 |
L 50 mm × W 20 mm ?L 250 mm × W 75 mm ※2（附带S类型的搬送系统和进料/出料选购件） |
基板厚度 |
0.5 mm ?2.0 mm |
设备尺寸/ 质量 ※3 |
W 930 mm × D 1 100 mm × H 1 450 mm / 555 kg |
W 1 764 mm × D 1 100 mm × H 1 450 mm / 850 kg （附带S类型的搬送系统和进料/出料选购件） |
|
W 1 750 mm × D 1 100 mm × H 1 450 mm / 725 kg（附带M类型的搬送系统和进料/出料选购件） |
|
电源 ※4 |
单相AC 200 V 2.00 kVA (峰值时5.00kVA) |
空压源 |
0.49 MPa、6.5 L/min [A.N.R.] |
侯先生
063*****6067
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