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SENTECH ICP等离子沉积系统-SI 500D
SENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售***的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）。
SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下(<100?C)沉积高质量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜。可以实现沉积薄膜厚度、折射率、应力的连续调节。
SI 500 D主要特点：
l 适用于8寸以及以下晶片
l 低温沉积高质量电介质膜：80°C~350°C
l 高速率沉积
l 低损伤
l 薄膜特性 (厚度、折射率、应力) 连续可调
l 平板三螺旋天线式PTSA等离子源 (Planar Triple Spiral Antenna)
l SENTECH***等离子设备操作软件
l 穿墙式安装方式
系统配置：
l 配置预真空锁（loadlock）， 带有取放机械手
l 基底温度从室温到350?C 可控
l PTSA ICP等离子源(13.56 MHz, 1200 W)
l 两路循环进气
l 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)
l 高速率真空泵系统，独立气流压强控制
l 绝缘电极，支持8" 基底或8" 托架(支持小晶圆,小片样品)
l 远程控制(RFC)
l Windos XP操作系统
北京亚科晨旭科技有限公司
进入店铺首页亚科提供设备： 检测设备：原子力显微镜、三维光学表面轮廓仪（白光干涉仪）、台阶仪、摩擦磨损测试仪、桌面扫描电镜、场发射电镜、X射线衍射仪XRD、X射线荧光光谱仪、傅里叶红外光谱仪、椭偏仪、反射仪； 前道工艺设备：PVD、PECVD、ICPECVD、LPCVD、氧化炉、快速退火炉、高温氧化炉、PE-ALD、分子束外延MBE、离子注入设备、扩散炉、晶圆键合机、光刻机、纳米压印设备、匀胶显影设备、感应耦合等离子体刻蚀机ICP、 反应离子刻蚀机RIE、深硅刻蚀设备、气体刻蚀设备、离子束刻蚀机、湿法刻蚀、研磨抛光机、划片机、湿法清洗机； 微组装设备：粘片机（全自动和半自动）、键合机（全自动和半自动）、封焊机、推拉力测试仪、倒装焊等； LTCC设备：流延机、裁片机、冲孔机、印刷填孔机、叠片机、层压机\等静压机\温水压机、切割机、排胶机、烧结炉等。 公司主营设备： 1. 整套半导体设备 2. 整套微组装设备 3. 整套SMT设备 4. LTCC线和线缆加工设备 北京亚科晨旭科技有限公司 地址：北京市朝阳区酒仙桥路甲12号电子城科技大厦14层1408室 葛女士 市场主管 电话：010-84799262-809 传真：010-84799265
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