招标预算 | 800万元 | ||
报名截止时间 | 2024-11-22 | 投标截止时间 | 2024-12-06 |
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产品特性 | PECVD | 加工定制 | 是 |
品牌 | 德国SENTECH | 型号 | Etchlab 200 |
用途 | RIE反应离子刻蚀 | 别名 | Etchlab 200 |
主营产品: 原子力显微镜扫描电子显微镜纳米表征微纳加工
产品特性 | PECVD | 加工定制 | 是 |
品牌 | 德国SENTECH | 型号 | SI 500 |
用途 | 等离子沉积 | 别名 | SI 500 |
主营产品: 原子力显微镜扫描电子显微镜纳米表征微纳加工
产品特性 | PECVD | 加工定制 | 是 |
品牌 | 德国SENTECH | 型号 | Etchlab 200 |
用途 | RIE反应离子刻蚀 | 别名 | Etchlab 200 |
主营产品: 半导体设备科研微纳米加工检测设备
产品特性 | PECVD | 加工定制 | 是 |
品牌 | 德国SENTECH | 型号 | SI 500 |
用途 | 等离子沉积 | 别名 | SI 500 |
主营产品: 半导体设备科研微纳米加工检测设备
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