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中国科学院微电子研究所离子刻蚀机采购项目国际招标公告(2)

招标 800万元 北京 朝阳 离子刻蚀机
发布时间:2024-11-15

基本信息

招标预算 800万元
报名截止时间 2024-11-22 投标截止时间 2024-12-06
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RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
产品特性 PECVD 加工定制
品牌 德国SENTECH 型号 Etchlab 200
用途 RIE反应离子刻蚀 别名 Etchlab 200

主营产品: 原子力显微镜扫描电子显微镜纳米表征微纳加工

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上海银雀电子科技发展有限公司

所在地:上海

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ICP-RIE等离子刻蚀机SI 500
产品特性 PECVD 加工定制
品牌 德国SENTECH 型号 SI 500
用途 等离子沉积 别名 SI 500

主营产品: 原子力显微镜扫描电子显微镜纳米表征微纳加工

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上海银雀电子科技发展有限公司

所在地:上海

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RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
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品牌 德国SENTECH 型号 Etchlab 200
用途 RIE反应离子刻蚀 别名 Etchlab 200

主营产品: 半导体设备科研微纳米加工检测设备

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北京亚科晨旭科技有限公司

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ICP-RIE等离子刻蚀机SI 500
产品特性 PECVD 加工定制
品牌 德国SENTECH 型号 SI 500
用途 等离子沉积 别名 SI 500

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